場效應(yīng)管的組成及場效應(yīng)管的三種組態(tài)電路詳解-KIA MOS管
信息來源：本站 日期：2020-10-22
歷史
場效應(yīng)管的組成，場效應(yīng)晶體管于1925年由Julius Edgar Lilienfeld和于1934年由Oskar Heil分別發(fā)明，但是實用的器件一直到1952年才被制造出來（結(jié)型場效應(yīng)管，Junction-FET，JFET）。
1960年Dawan Kahng發(fā)明了金屬氧化物半導體場效應(yīng)晶體管（Metal-Oxide-Semiconductor Field-effect transistor, MOSFET），從而大部分代替了JFET，對電子行業(yè)的發(fā)展有著深遠的意義。
電極
所有的FET都有柵極（gate）、漏極（drain）、源極（source）三個端，分別大致對應(yīng)BTJ的基極（base）、集電極（collector）和發(fā)射極（emitter）。除JFET以外，所有的FET也有第四端，被稱為體（body）、基（base）、塊體（bulk）或襯底（substrate）。
這個第四端可以將晶體管調(diào)制至運行；在電路設(shè)計中，很少讓體端發(fā)揮大的作用，但是當物理設(shè)計一個集成電路的時候，它的存在就是重要的。在圖中柵極的長度（length）L，是指源和漏的距離。寬度（width）是指晶體管的范圍，在圖中和橫截面垂直。通常情況下寬度比長度大得多。長度1微米的柵極限制最高頻率約為5GHz，0.2微米則是約30GHz。
組成
場效應(yīng)管的組成，F(xiàn)ET由各種半導體構(gòu)成，目前硅是最常見的。大部分的FET是由傳統(tǒng)塊體半導體制造技術(shù)制造，使用單晶半導體硅片作為反應(yīng)區(qū)，或者溝道。
場效應(yīng)管與三極管相同，也具有拓寬效果，但它與通常晶體管電流操控型器材相反，場效應(yīng)管是電壓操控型器材。它具有輸入阻抗高、噪聲低的特征。
場效應(yīng)管的三個電極，柵極、源極和漏極別離恰當于三極管的基極、發(fā)射極和集電極。如圖所示是場效應(yīng)管三種組態(tài)電路，即共源極、共漏極和共柵極拓寬器。圖 （a）所示是共源極拓寬器，它恰當于三極管中的共發(fā)射極拓寬器，是一種最常用電路。
場效應(yīng)管三種組態(tài)電路：圖（b）所示是共漏極拓寬器，恰當于三極管共集電極拓寬器，輸入信號從漏極與柵極之間輸入，輸出信號從源極與漏極之間輸出，這種電路又稱為源極輸出器或源極跟從器。圖（c）所示是共柵極拓寬器，它恰當于三極管共基極拓寬器，輸入信號從柵極與源極之間輸入，輸出信號從漏極與柵極之間輸出。這種拓寬器的高頻特性比照好。
1.電路結(jié)構(gòu)
RG1. RG2為分壓電阻,RG2上的壓降為場效應(yīng)管的柵極提供偏置電壓故該電路稱為分壓式自偏壓放大電路。RG3上沒有電流,對電路的靜態(tài)工作點沒有影響,RD為源極電阻。
2.靜態(tài)分析
主要求解場效應(yīng)管的IDQ、UGsQ、UDsQ如圖1所示電路的直流通路如圖2所示,由于RG3.上沒有電流,故沒有繪制在直流通路中。
3.動態(tài)分析
如圖1所示電路的小信號等效電路如圖3所示。
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